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摘要:
本文在探讨镀膜玻璃一些基本问题的基础上,阐述了磁控溅射在玻璃涂层技术中的应用机理、靶的结构、靶材的选取、提高膜层质量以及镀膜玻璃的应用及发展前景等问题。
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文献信息
篇名 直流磁控溅射镀膜在玻璃涂层技术中的应用
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 磁控溅射 镀膜玻璃、涂层
年,卷(期) 2001,(1) 所属期刊栏目 专家聚焦
研究方向 页码范围 18-22
页数 5页 分类号 TN305.8
字数 3911字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.01.004
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1 侯鹤岚 2 42 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
镀膜玻璃、涂层
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期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
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