芯片上的离子色谱

• 作者: Murr,JP 傅若龙
• 来源期刊: 国外分析仪器技术与应用
• 学科: 化学
• 关键词: 离子色谱 芯片技术 刻蚀 分离 色谱柱
• 年，卷（期）: gwfxyqjsyyy_2001,（4）
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: O657.75

摘要

完成了在芯片上以离子色谱对无机阳离子的分离，使用标准的光刻技术，在硅晶片上刻蚀分离微沟道，利用湿法和干法刻蚀芯片并阳极键合技术，并用Pyrex玻璃片封盖刻蚀的芯片。首次利用季铵乳胶颗粒涂渍芯片上的分离沟道。由于在芯片上的微沟道有0．5－10μm，分离样品和固定相之间的相互作用，在芯片的分离沟道上的作用几率要比在50μm的毛细管上高的多。在芯片外进样（20mL）和紫外检测，利用1mM KCl作洗脱剂分离了NO2^－，NO3^－，I^－和硫脲。对NO2^－，NO3^－的线性范围为5－1000μM，检测限为0．5μM。