改善AES/XPS深度剖析的一种方法:减小电子平均自由程对深度剖析的影响

• 作者: 季振国 郭伟民
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 俄歇电子谱 X光电子谱 深度剖析 电子平均自由程
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 322-325
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 3003字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2001.04.015

摘要

AES/XPS结合离子刻蚀得到的深度剖析曲线在薄膜分析中十分有用.但由于AES/XPS信号来自表面3～5个电子平均自由程内所有原子的贡献,因此如果薄膜很薄,那么测到的深度剖析曲线并不能反映实际的浓度随深度的变化.本文通过简单的数学运算,基本消除了由于电子平均自由程对深度剖析曲线的影响,从而得到很好的浓度随深度变化的曲线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	季振国		48	467	12.0	19.0