电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构

• 作者: 叶超 宁兆元 程珊华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化非晶碳薄膜 电子回旋共振等离子体
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 566-571
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 4057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.03.039

摘要

使用CHF3和C6H6混合气体做气源，在一个电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积装置中制备了氟化非晶碳(a-CFx)薄膜。利用发射光谱研究了等离子体中形成的各种碳-氟、碳-氢基团随放电宏观参量的变化规律，对薄膜做了傅里叶变换红外光谱和X射线光电子能谱分析，证实等离子体中的CF2，CF和CH基团是控制薄膜生长、碳/氟成分比和化学键结构的主要前驱物。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
3	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0