弧光放电法原位清洗光学元件

• 作者: 侯雪颖 刘凤琴 钱海杰 陶冶 陶小平
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学元件 原位清洗 弧光放电 同步辐射
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 147-149
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 2086字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2001.02.016

摘要

光学元件受到污染后其光学性能会变差，如何对其进行清洗，尽可能地恢复其原来的性能，使其能够重新使用显得很重要。本文介绍一种碳污染的原位清洗方法——射频弧光放电法，利用原子氧与光学元件表面所沉积的碳反应以达到清洗的目的。清洗装置建立后对北京同步辐射装置(BSRF)上所使用的光学元件进行了清洗，取得了较好的效果。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶冶	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	96	1118	19.0	30.0
2	陶小平	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	32	138	6.0	11.0
3	刘凤琴	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	17	31	3.0	5.0
4	钱海杰	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	23	35	4.0	5.0
5	侯雪颖	中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室	3	24	3.0	3.0