光刻工艺参数的优化方法

• 作者: 刘忠安
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻工艺 有效时差 优化设计
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 52-53,61
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1930字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2001.01.014

摘要

通过引入有效时差的概念，提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比，该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系，并可对光刻工艺进行优化设计

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘忠安	南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心	5	37	3.0	5.0