分散染料还原性质的极谱研究

• 作者: 吴宇宁 唐人成 王惠珍 程万里 范秉宪 货铁强 龙家杰
• 来源期刊: 染料工业
• 学科: 工学
• 关键词: 分散染料 半波电位 表观半还原时间 拔染印花 涤纶织物
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 染料与颜料
• 页码范围: 11-20,10
• 页数: 11页
• 分类号: TQ61
• 字数: 7889字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-1179.2001.02.004

摘要

本文通过经典极谱法对分散染料的还原难易、快慢进行了探讨.测定了分散染料半波电位(E1/2)及表现半还原时间(t1/2),分析了分散染料半波电位与拨染性之间的关系,研究了分散染料结构类型、取代基团、工艺参数对半波电位和拨染性的影响.提出表现半还原时间与拔染速率之间存在的对应关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐人成	苏州大学材料工程学院	142	1623	22.0	33.0
2	龙家杰	苏州大学材料工程学院	55	338	11.0	15.0
3	程万里	苏州大学材料工程学院	30	506	13.0	22.0
4	王惠珍	苏州大学材料工程学院	10	76	6.0	8.0
5	范秉宪	苏州大学材料工程学院	1	4	1.0	1.0
6	货铁强	苏州大学材料工程学院	1	4	1.0	1.0
7	吴宇宁		1	4	1.0	1.0