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烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究
烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究
作者:
张海军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
真空阴极电弧离子镀
低温沉积
TiC黑膜
摘要:
研究输入C2H2+C3H8+Ar+N2混合气的低温沉积TiC涂层真空阴极电弧离子镀技术,研究结果表明:TiC涂层层深0.005~0.0025mm,涂层硬度2800~3500 Hv0.02,主要用于材料表面工程中耐磨、耐蚀及装饰的涂层.
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文献信息
篇名
烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
真空阴极电弧离子镀
低温沉积
TiC黑膜
年,卷(期)
2001,(6)
所属期刊栏目
热点追踪
研究方向
页码范围
17-19
页数
3页
分类号
TB43
字数
2185字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-0322.2001.06.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张海军
8
23
3.0
4.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
真空阴极电弧离子镀
低温沉积
TiC黑膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
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