烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究

• 作者: 张海军
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 真空阴极电弧离子镀 低温沉积 TiC黑膜
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 热点追踪
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2185字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.06.004

摘要

研究输入C2H2+C3H8+Ar+N2混合气的低温沉积TiC涂层真空阴极电弧离子镀技术,研究结果表明:TiC涂层层深0.005～0.0025mm,涂层硬度2800～3500 Hv0.02,主要用于材料表面工程中耐磨、耐蚀及装饰的涂层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张海军		8	23	3.0	4.0