紫外激光晶体Ce3+:LiSrAlF6发光温度依赖中的陷阱效应

• 作者: 周东方 施朝淑 汤洪高 陶德节 魏亚光
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ce3+:LiSrAlF6晶体 发光强度的温度依赖 热释光 陷阱 紫外激光
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 258-262
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 3022字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2001.03.011

摘要

在105～300K温区内,测量了X射线激发下Ce3+:LiSrAlF6晶体发光强度的温度依赖(I-T),在237～300K温区内发光强度有特殊的增强结构,结合105～300K温区内热释光的测量,证实这种发光强度的增强效应是由于陷阱参与发光过程所导致.通过对热释光曲线的进一步分析,得到深度分别为0.51eV和0.55eV的陷阱能级,这些陷阱主要源于Ce3+取代Sr2+所形成的杂质缺陷和基质LiSrAlF6中的F空位以及Li+空位所形成的本征缺陷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施朝淑	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	48	820	15.0	27.0
2	陶德节	中国科学院安徽光学精密机械研究所	8	47	3.0	6.0
3	周东方	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	8	84	5.0	8.0
4	汤洪高	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	20	254	8.0	15.0
5	魏亚光	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	9	33	3.0	5.0