射频溅射制备钛酸铅薄膜

• 作者: 李言荣 杨成韬 纪洪 袁鑫
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 射频溅射 电滞回线 钛酸铅薄膜 晶化
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 16-18
• 页数: 4页
• 分类号: TN282
• 字数: 2778字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2001.02.008

摘要

采用射频磁控溅射方法制备钙钛矿型钛酸铅铁电薄膜。通过各种不同溅射工艺条件研究，在适宜的溅射条件和基片温度下，溅射获得的PbTiO3薄膜表面晶粒大小均匀，膜层致密性好，经XRD分析证实，薄膜为钙钛矿型结构PbTiO3。外加Pt电极对薄膜进行测试表明，溅射得到的PbTiO3薄膜具有较好的电滞回线特性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李言荣	电子科技大学信息材料工程学院	115	824	15.0	21.0
2	杨成韬	电子科技大学信息材料工程学院	67	255	8.0	12.0
3	袁鑫	电子科技大学信息材料工程学院	1	3	1.0	1.0
4	纪洪	电子科技大学信息材料工程学院	1	3	1.0	1.0