瓷绝缘子棕红釉黑色网状缺陷形成机理探讨

• 作者: 朱振峰 申彩玲 陈平 陈月娥
• 来源期刊: 电瓷避雷器
• 学科: 工学
• 关键词: 绝缘子 复合尖晶石 结晶分相 黑色网状结构
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 绝缘子
• 页码范围: 3-8
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 4112字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-8337.2001.05.001

摘要

采用OM、SEM、XRD、DTA、EPMA等手段,系统研究了瓷绝缘子棕红釉面黑色网状缺陷的工艺及结构特征,探讨了缺陷形成的机理.结果表明,这种缺陷产生的主要原因是由于使用了氧化物着色及原料配比、釉浆性能、施釉厚度、烧成温度、烧成气氛控制不当所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈平		12	62	4.0	7.0
2	朱振峰		10	63	4.0	7.0
3	陈月娥		2	6	1.0	2.0
4	申彩玲		1	0	0.0	0.0