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摘要:
使用高阻Si材料,通过氧化、光刻、注入和退火工艺技术研制粒子探测器——PIN二极管.采取HCl氧化、慢降温等工艺措施可减小PIN二极管的暗电流(反向电流),这对于提高器件性能起到了关键作用.电压为-5V时,探测器的暗电流可达nA/cm2量级.讨论了器件暗电流与少子寿命的关系.
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关键词云
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文献信息
篇名 平面工艺辐射探测器的研制
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 PIN二极管 暗电流 复合中心 少子寿命
年,卷(期) 2001,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 354-357
页数 4页 分类号 O572.11
字数 2741字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.03.022
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 宁宝俊 北京大学微电子所 15 100 5.0 9.0
2 张太平 北京大学微电子所 8 77 5.0 8.0
3 张录 北京大学微电子所 7 30 4.0 5.0
4 田大宇 北京大学微电子所 12 46 5.0 6.0
5 刘诗美 北京大学微电子所 1 7 1.0 1.0
6 张洁天 北京大学物理系 6 66 4.0 6.0
7 郭昭乔 1 7 1.0 1.0
8 陈世媛 1 7 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
PIN二极管
暗电流
复合中心
少子寿命
研究起点
研究来源
研究分支
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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