黑镍涂层的制备与光学性能研究

• 作者: 胡文旭
• 来源期刊: 太阳能学报
• 学科: 工学
• 关键词: 选择性吸收 涂层 黑镍 光学性能 制备工艺
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 443-447
• 页数: 5页
• 分类号: TK511+.4
• 字数: 3257字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-0096.2001.04.017

摘要

研究了以玻璃为基材,用电镀的方式制备Black Nickel-Cu-Glass选择性吸收涂层的方法,该涂层获得了α＝0.93～0.95,ε＝0.05～0.06,(α)/(ε)＝15的光学性能,论述了制备条件和膜层厚度及基材表面光洁度对光学性能的影响,由实验结果得出了双层黑镍的最佳厚度为0 .048～0.063mg/cm2,单层黑镍的最佳厚度为0.040～0.052mg/cm2以及涂层组成的主要成分的比例范围.用图示法详细说明了镀液温度对涂层光学性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡文旭	陕西师范大学物理学与信息技术学院	6	56	4.0	6.0