脉冲激光制备硅基超薄PtSi薄膜

• 作者: 李美成 杨建平 王菁 赵连城 陈学康
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) 激光退火 纳米薄膜
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 285-286,289
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 2558字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.03.024

摘要

用脉冲激光沉积制备了纳米级Pt/Si异质层,对脉冲激光退火形成超薄PtSi薄膜进行了研究.对于Pt、Si互扩散反应形成Pt2Si和PtSi的过程利用XPS进行了测试分析,通过XPS和AFM等分析测试手段对不同参数激光退火形成的PtSi薄膜的结构特性进行观测.我们获得了均匀的、超薄连续的PtSi层且具有平滑的PtSi/Si界面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵连城	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	107	1153	16.0	29.0
2	陈学康	兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室	24	197	7.0	13.0
3	杨建平	兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室	8	89	4.0	8.0
4	李美成	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	29	200	8.0	13.0
5	王菁	兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室	3	61	2.0	3.0