Ge/Si多层膜热稳定性的Raman光谱研究

• 作者: 周湘萍 张树波 杨宇 毛旭
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: Raman光谱 Ge/Si多层膜 退火
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 429-430,433
• 页数: 3页
• 分类号: O657.37
• 字数: 2951字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.04.035

摘要

用Raman光散射的方法,观察了磁控溅射技术制备的Ge/Si系列多层膜退火处理后的备Raman峰的变化,对其峰形、峰位及峰强的变化进行讨论分析.实验结果显示:Ge/Si多层膜经700℃热处理10min后,能改善各层的晶体质量,得到较完整的多层膜的结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宇	云南大学材料科学与工程系	101	377	9.0	12.0
2	毛旭	云南大学材料科学与工程系	9	71	6.0	8.0
3	周湘萍	云南大学材料科学与工程系	2	12	2.0	2.0
4	张树波	云南大学材料科学与工程系	8	45	5.0	6.0