离子注入对SiO2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响

• 作者: 吕晋军 徐洮 杨生荣 薛群基 齐尚奎
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束混合 非晶碳薄膜 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2675字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2001.01.002

摘要

采用真空蒸镀法在SiO2表面制备非 晶态碳纳米薄膜,考察了碳离子注入对非晶态碳薄膜与基体结合强度及摩擦学性能的影响， 并采用X射线光电子能谱表征了碳薄膜/基体的界面化学状态.研究结果表明：非晶态碳薄膜 经碳离子注入处理后,碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命均明显提高；当碳离子注入剂 量达到1×1016 C+/cm2时，碳薄膜与基体的结合强度增加,但碳薄膜耐磨寿命的 提高幅度有限；当注入剂量达到并超过5×1016 C+/cm2后，碳离子注入所引起的 碰撞混合和化学混合作用直接导致碳薄膜与SiO2基体界面处的原子扩散以及Si-C键的形 成，从而大幅提高碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕晋军	中国科学院兰州化学物理研究所	60	777	13.0	26.0
2	薛群基	中国科学院兰州化学物理研究所	219	3991	32.0	53.0
3	杨生荣	中国科学院兰州化学物理研究所	104	1439	18.0	34.0
4	齐尚奎	中国科学院兰州化学物理研究所	18	123	6.0	10.0
5	徐洮	中国科学院兰州化学物理研究所	75	815	16.0	23.0