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摘要:
运用自洽的蒙特卡罗方法模拟了肖特基接触的隧穿效应.模拟的内容包括具有不同的势垒高度的金属-半导体接触在正向和反向偏置下的工作状态.分析模拟结果可知,隧穿电流在反向偏置下起主要的作用.同时还模拟了引入肖特基效应后,SBD的工作特性,验证了模拟使用的物理模型.得到了与理论计算值符合的模拟结果.分析模拟结果表明,由于肖特基效应形成的金属-半导体接触势垒的降低,会在很大程度上影响金属-半导体接触的输运特性.
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文献信息
篇名 蒙特卡罗方法模拟金属-半导体接触的直接隧穿效应
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 蒙特卡罗器件模拟 金属-半导体接触 直接隧穿 Schottky效应PACC:7340J J115Q
年,卷(期) 2001,(11) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 1364-1368
页数 5页 分类号 O47
字数 598字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.11.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘晓彦 北京大学微电子研究所 41 268 9.0 15.0
2 韩汝琦 北京大学微电子研究所 38 261 10.0 14.0
3 杜刚 北京大学微电子研究所 15 56 5.0 7.0
4 孙雷 北京大学微电子研究所 6 35 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
蒙特卡罗器件模拟
金属-半导体接触
直接隧穿
Schottky效应PACC:7340J
J115Q
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
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1980
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