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摘要:
用MOVPE方法采取一种两步生长过程生长了未掺杂和Si掺杂的GaN.在生长了一个20nm厚的缓冲层后,外延生长了1μm厚的立方GaN外延层.利用二次离子质谱测定了掺杂的程度.并用X射线衍射和光致发光测量来表征了未掺杂和Si掺杂GaN的结构和光学质量.
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内容分析
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文献信息
篇名 用MOVPE方法外延生长Si掺杂的立方相GaN
来源期刊 发光学报 学科 工学
关键词 Si掺杂GaN MOVPE 光致发光特性
年,卷(期) 2001,(z1) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 1-4
页数 4页 分类号 TN312.8
字数 705字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-7032.2001.z1.001
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研究主题发展历程
节点文献
Si掺杂GaN
MOVPE
光致发光特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
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7
总被引数(次)
29396
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