CVD金刚石膜的抛光技术

• 作者: 刘敬明 吕反修 宋建华 张恒大 蒋政
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 抛光 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 抛光技术
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 3442字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2001.01.006

摘要

高的表面粗糙度和厚度的不均匀性影响了CVD金刚石膜的应用.而抛光可以减少这些缺点近年来.发展了许多CVD金刚石膜的抛光技术.而且不同的抛光技术都有其优缺点.表文总结了CVD金刚石膜的各种抛光技术及其特点.并提出了一种新的抛光技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修		151	1208	18.0	24.0
2	宋建华		29	265	11.0	14.0
3	张恒大		10	62	5.0	7.0
4	蒋政		7	41	4.0	6.0
5	刘敬明		11	91	6.0	9.0