沉积温度对NbN膜层微观结构的影响

• 作者: 侯君达 宋教花 张涛 李永良 邓志威 马芙蓉
• 来源期刊: 北京师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体沉积 氮化铌 温度
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TL503.3
• 字数: 2269字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0476-0301.2001.01.010

摘要

利用有磁过滤器的等离子体沉积装置，在不同温度的Si基底上沉积氮化铌(NbN)薄膜，通过XRD，XPS，SEM等分析，研究了NbN薄膜的表面形貌与微观结构跟温度的关系.发现沉积温度对择优取向有较强的影响：从室温到约300℃得到的薄膜在(220)峰表现出很强的择优取向，500℃(220)峰变得很弱，(200)峰表现出择优取向，但不明显.同时，膜层中N和Nb的原子比先随温度的升高而升高，后稍有降低.温度升高，δ-NbN的晶粒变大.室温到300℃很难得到完整的NbN膜，而在500℃得到的薄膜完整且光滑,膜层中得到单一的δ-NbN相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张涛	北京师范大学低能核物理研究所	129	353	9.0	13.0
2	宋教花	北京师范大学低能核物理研究所	5	25	3.0	5.0
3	侯君达	北京师范大学低能核物理研究所	7	50	4.0	7.0
4	马芙蓉	北京师范大学低能核物理研究所	8	34	3.0	5.0