超薄坡莫合金薄膜

• 作者: 于广华 朱逢吾 赵洪辰
• 来源期刊: 科学通报
• 学科: 工学
• 关键词: NiFe薄膜 各向异性磁电阻 矫顽力 结构
• 年，卷（期）: 2001,（13）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 1136-1140
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 3579字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0023-074X.2001.13.020

摘要

基于辉光放电原理在超高本底真空下制备了Ni81Fe19(12 nm)超薄薄膜,其各向异性磁电阻(AMR)变化率达到1.2%,而矫顽力却只有127 A/m同较低本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜进行结构比较表明:超高本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜表面光滑、平整、起伏小,薄膜致密,结构缺陷较少;而较低本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜表面粗糙、起伏大,薄膜较疏松、不均匀,结构缺陷较多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
2	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
3	赵洪辰	北京科技大学材料物理系	6	53	5.0	6.0