O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究

• 作者: 伏晓国 刘柯钊 柏朝茂 汪小琳 蒋春丽 赵正平
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 化学
• 关键词: O2 U U-Nb合金 表面吸附 X射线光电子谱
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 页码范围: 575-578
• 页数: 4页
• 分类号: O614.62
• 字数: 2463字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2001.06.004

摘要

采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪小琳		82	376	11.0	13.0
2	刘柯钊		36	150	8.0	9.0
3	伏晓国		13	70	6.0	7.0
4	赵正平		8	46	5.0	6.0
5	蒋春丽		15	67	6.0	7.0
6	柏朝茂		15	78	6.0	8.0