多孔硅微腔微结构的AFM和SEM研究

• 作者: 刘小兵 史向华
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 化学
• 关键词: 多孔硅微腔 原子力显微镜 多层结构 扫描电子显微镜 微结构
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 443-447
• 页数: 5页
• 分类号: TH742.9|O613.72|O766
• 字数: 3975字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2001.06.018

摘要

多孔硅微腔是采用交替变化脉冲腐蚀电流密度的方法制成的多孔度周期性变化的多孔硅结构.用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)对多孔硅微腔的侧向解理的截面进行了观测,得到了不同多孔层及其界面处的图像.微腔截面的扫描电镜图像清楚地显现出第Ⅱ型多孔硅微腔的"三明治”结构,即中心发光层被夹在两个Bragg反射镜之间.这些结果表明结合分子束外延技术和电化学腐蚀方法可以很容易得到多孔硅微腔.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史向华	长沙电力学院物理与信息工程系	25	84	5.0	8.0
2	刘小兵	长沙电力学院物理与信息工程系	28	102	5.0	8.0