杂多酸-PDDA多层膜在4-ATP修饰金电极上的电化学性质

• 作者: 刘柏峰 孙勤枢 程龙 董绍俊 黄正国
• 来源期刊: 济宁医学院学报
• 学科: 化学
• 关键词: 电化学生长 多层膜 电催化
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: O646
• 字数: 2871字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9760.2001.01.010

摘要

目的制备包含杂多酸(SiMo11VO405-和Pr(SiMo7W4O405-))和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极,研究其电化学行为.方法利用电化学生长法制备多层膜修饰电极,并用循环伏安法研究其电化学行为.结果Mo的第三个还原峰随多层膜层数的增加显著增长,而另两个还原峰增长缓慢甚至不增长.多层膜修饰电极的峰电位随pH的增加而线性负移.结论该多层膜的电化学性质不同于以往制备的多层膜,有其特殊性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙勤枢	济宁医学院化学教研室	20	109	5.0	10.0
2	董绍俊	中国科学院长春应用化学研究所	45	603	13.0	24.0
3	黄正国	济宁医学院化学教研室	6	24	4.0	4.0
4	程龙	中国科学院长春应用化学研究所	14	127	6.0	11.0
5	刘柏峰	中国科学院长春应用化学研究所	3	24	3.0	3.0