对苯撑乙烯低聚物光氧化降解研究

• 作者: 吴大勇 张宝文 王波杰 马利川 高云燕
• 来源期刊: 化学通报
• 学科: 化学
• 关键词: 对苯撑乙烯 低聚物 光氧化降解 单线态氧 ESR
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 285-287,284
• 页数: 4页
• 分类号: O62
• 字数: 2219字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0441-3776.2001.05.005

摘要

五种对苯撑乙烯低聚物的光氧化降解反应表明：给电子基团能促进其光氧化降解，而吸电子基团却能提高它们的光稳定性。这为用分子修饰的方法提高对苯撑乙烯类发光材料的稳定性提供了理论基础。在自敏化和染料敏化的光氧化降解反应中，五种低聚物的降解速率顺序完全一致，意味着单线态氧(1O2)是其光氧化降解反应过程中的主要中间体。ESR自旋捕获实验进一步证实了上述论断。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴大勇	中国科学院理化技术研究所	16	181	6.0	13.0
2	王波杰	中国科学院理化技术研究所	5	17	2.0	4.0
3	张宝文	中国科学院理化技术研究所	37	398	9.0	19.0
4	马利川	中国科学院理化技术研究所	2	7	2.0	2.0
5	高云燕	中国科学院理化技术研究所	2	2	1.0	1.0