茜素修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铜

• 作者: 李益恒 胡朝晖 谢红旗
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 铜 茜素 碳糊修饰电极 吸附伏安法C
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: O657.12
• 字数: 2243字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2001.01.014

摘要

报道了采用茜素修饰碳糊电极测定痕量铜的阳极溶出伏安法。在浓度为 0.1 mol/L 的 HAc-NaAc 缓冲溶液（pH 4.5）中，于+0.10V 处富集，-0.30V 还原后再进行阳极化扫描，于 -0.05V 处获得一灵敏的铜的溶出峰，二次导数峰电流与铜浓度在 1.6×10-9 mol/L～4.7×10-7 mol/L 范围内呈线性关系，检出限达 8.0×10-10 mol/L。同时，对电极反应机理进行了讨论。方法应用于锌合金中铜的测定。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李益恒	湘潭大学化学系	36	189	9.0	12.0
2	谢红旗	湘潭大学化学系	6	58	5.0	6.0
3	胡朝晖		1	7	1.0	1.0