Ta/NiOx/Ni81Fe19/Ta和Co/AlOx/Co磁性薄膜中原子的化学状态

• 作者: 于广华 朱逢吾 柴春林
• 来源期刊: 科学通报
• 学科: 工学
• 关键词: NiOx/NiFe 交换耦合 Co/AlOx/Co X射线光电子能谱(XPS) 化学状态
• 年，卷（期）: 2001,（23）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 1944-1947
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 3443字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0023-074X.2001.23.003

摘要

用射频/直流磁控溅射法制备了Ta/NiOx /Ni81Fe19/Ta和Co/AlOx/Co磁性薄膜, 并利用X射线光电子能谱(XPS)和振动样品磁强计(VSM)研究了Ar/O2比与NiOx化学状态以及Ta/NiOx/Ni81Fe19/Ta薄膜磁性之间的关系. 结果表明: 当溅射气压为0.57 Pa, Ar/O2为7︰1时, 制备的NiOx中的x @ 1, 镍为+2价, 相应的交换耦合场(Hex)最大; Ar/O2比偏离7︰1时, NiOx层中出现单质镍和+3价的镍, 相应的Hex也下降, 单质镍的出现还会增大该磁性薄膜的矫顽力(Hc). 用XPS还研究了Co/AlOx/Co磁性薄膜中AlOx对Co膜的覆盖状况, Al层将Co膜完全覆盖所需要的最小厚度约1.8 nm, 采用角分辨XPS方法测出的Al的氧化物为Al2O3, 氧化厚度为1.2 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
2	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
3	柴春林	北京科技大学材料物理系	4	18	2.0	4.0