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摘要:
介绍了一种非晶硅薄膜低温晶化的新工艺--金属诱导非晶硅薄膜低温晶化.在非晶硅膜上蒸镀金属铝薄膜,而后于氮气保护中退火,实现了非晶硅薄膜的低温(<600℃)晶化.利用X射线衍射、光学显微镜及透射电镜等测试方法,研究了不同退火工艺对非晶硅薄膜低温晶化的影响,确定了所制备的是多晶硅薄膜.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 铝诱导非晶硅薄膜低温晶化及结构研究
来源期刊 功能材料 学科 工学
关键词 金属诱导 非晶硅薄膜 低温晶化 多晶硅薄膜
年,卷(期) 2001,(4) 所属期刊栏目 简报
研究方向 页码范围 447-448
页数 2页 分类号 TN304|TN305
字数 967字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.04.042
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐重阳 华中理工大学电子科学与技术系 33 239 9.0 14.0
2 曾祥斌 华中理工大学电子科学与技术系 8 34 3.0 5.0
3 王长安 华中理工大学电子科学与技术系 7 32 3.0 5.0
4 周雪梅 华中理工大学电子科学与技术系 6 32 3.0 5.0
5 赵伯芳 华中理工大学电子科学与技术系 7 39 4.0 6.0
6 饶瑞 华中理工大学电子科学与技术系 3 14 2.0 3.0
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研究主题发展历程
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非晶硅薄膜
低温晶化
多晶硅薄膜
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功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
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30
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