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摘要:
建立了YF基元生长模型来模拟腐蚀箔形态,并利用该模型计算了各种形成电压下的理论扩面倍率,所得到的结果介于C.G.Dunn的圆孔模型和永田伊佐也的方孔模型之间.结果显示:目前近高压区(>300V)的实际扩面倍率与理论扩面倍率已很接近,通过电蚀扩面的前景较小,而对于中低压腐蚀箔,单位面积的静电容量的提高余地还很大.
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文献信息
篇名 电容器用铝箔交流腐蚀理论扩面倍率K的计算机模拟计算*
来源期刊 功能材料 学科 工学
关键词 铝箔 电腐蚀过程 模拟 表面积
年,卷(期) 2001,(1) 所属期刊栏目 研究与开发
研究方向 页码范围 50-52
页数 3页 分类号 TM53
字数 3247字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.01.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨邦朝 电子科技大学信息材料工程学院 253 3422 31.0 49.0
2 冯哲圣 电子科技大学信息材料工程学院 44 541 13.0 22.0
3 肖占文 电子科技大学信息材料工程学院 4 46 4.0 4.0
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铝箔
电腐蚀过程
模拟
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研究去脉
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期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
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12427
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30
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91048
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