氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的XPS研究

• 作者: 刘志凯 吴正龙 张建辉 李庚伟 杨少延 杨锡震
• 来源期刊: 北京师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO/Si异质结构 X射线光电子能谱(XPS) 氧离子束辅助(O+-assisted)PLD
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 174-179
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|TN248.25|TN249
• 字数: 3674字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0476-0301.2001.02.008

摘要

利用X射线光电子能谱深度剖析方法对ZnO/Si异质结构进行了分析.用该法可生长出正化学比的ZnO,不过生长的ZnO薄膜存在孔隙，工艺还有待进一步改进.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘志凯	中国科学院半导体材料科学实验室	17	43	4.0	5.0
2	张建辉	中国科学院半导体材料科学实验室	31	506	13.0	22.0
3	杨少延	中国科学院半导体材料科学实验室	17	35	3.0	5.0