金属诱导法低温多晶硅薄膜的制备与研究

• 作者: 刘传珍 吴渊 寥燕平 张玉 李牧菊 杨柏梁 王大海 袁剑峰 黄锡珉
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属诱导晶化 多晶硅
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 61-65
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.8
• 字数: 2414字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.01.011

摘要

利用金属诱导晶化（Metal Induced Crystallization,MIC）的方法研究了a-Si/Ni的低温晶化，MIC晶化温度能降低到440℃.采用XRD、Raman、SEM、XPS等分析手段研究了Ni-MIC多晶硅薄膜的特性，对薄膜结构和组成进行了分析，对晶化过程的机理进行了讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄锡珉	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	39	413	11.0	19.0
2	王大海	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	4	17	2.0	4.0
3	刘传珍	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	3	10	2.0	3.0
4	杨柏梁	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	12	90	7.0	9.0
5	袁剑峰	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	2	1	1.0	1.0
6	李牧菊	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	5	16	2.0	4.0
7	吴渊	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	3	14	2.0	3.0
8	寥燕平	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	1	0	0.0	0.0
9	张玉	中国科学院长春物理研究所北方液晶研究中心	17	40	4.0	6.0