巯基钴卟啉自组装膜的表征及催化性能

• 作者: 卢小泉 康敬万 张焱 朱开梅 靳军
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 巯基卟啉,自组装膜,催化 抗坏血酸
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 1178-1180
• 页数: 3页
• 分类号: O65
• 字数: 1506字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2001.10.017

摘要

用自制的新型尾式巯基钴?卟啉在金电极上制成自组装单分子膜,并用XPS,SEM和电化学的方法进行了表征.该膜对抗坏血酸具有良好的催化作用,其氧化过电位较裸金电极上降低了140 mV,响应电流与抗坏血酸(AA)的浓度在7.8×10-5 mol/L～1.0×10-2 mol/L的范围内具有良好的线性关系;相关系数为0.9981;检测下限为1.3×10-8 mol/L(富集10 min).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	康敬万	西北师范大学化学研究所	73	811	16.0	26.0
2	卢小泉	西北师范大学化学研究所	92	897	16.0	27.0
3	张焱	西北师范大学化学研究所	10	93	3.0	9.0
4	靳军	西北师范大学化学研究所	2	27	2.0	2.0
5	朱开梅	西北师范大学化学研究所	4	83	2.0	4.0