NdFeB薄膜制备及对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响

• 作者: 万红 斯永敏 谢海涛 黄锐
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 NdFeB薄膜 TbFe薄膜 超磁致伸缩
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: TM271|O484.4+3
• 字数: 2068字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8192.2001.03.004

摘要

本文采用磁控溅射镀膜技术，制备NdFeB、TbFe单层及TbFe/NdFeB复合薄膜。通过设计正交试验，优化溅射工艺参数。采用振动样品磁强仪、X射线衍射仪对不同热处理温度处理的NdFeB薄膜的磁学性能、晶体结构进行了研究，并采用电容位移测量法对TbFe薄膜和TbFe/NdFeB复合薄膜的磁致伸缩系数进行测量。研究结果表明，NdFeB薄膜和TbFe薄膜为面内易磁化方向，在低于400℃温度下真空热处理，薄膜保持非晶态，显现较好的软磁性能。与TbFe薄膜复合，可以大大降低薄膜的矫顽力，其低场磁致伸缩性能优于TbFe单层薄膜，这为提高TbFe薄膜的低场磁致伸缩性能的研究提供了一条新途径。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万红	国防科技大学材料工程与应用化学系	17	230	11.0	15.0
2	谢海涛	国防科技大学材料工程与应用化学系	5	54	4.0	5.0
3	斯永敏	国防科技大学材料工程与应用化学系	28	191	10.0	12.0
4	黄锐	国防科技大学材料工程与应用化学系	2	19	2.0	2.0