μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜的周期性结构和量子尺寸效应

• 作者: 冯技文 冯良桓 周心明 徐宁 徐明 王洪涛 蔡亚平 麦振洪
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频辉光放电法 μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜 光学性质 电导激活能
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 435-439
• 页数: 5页
• 分类号: O753+.1
• 字数: 3842字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.04.010

摘要

利用射频辉光放电法，通过周期性交替切换两种耦合电极的方式，制备了μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜．低角度X射线衍射(LAXRD)测试表明，这种多层膜具有良好的周期性结构．观察了上述多层膜的光学性质及电导率与温度的关系，发现其吸收边随着a-Si∶H层的减薄而蓝移，低温下的电导激活能Ea随着a-Si∶H层的减薄而减小

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯良桓	四川大学材料科学系	78	424	10.0	17.0
2	徐明	中国科学院物理研究所	48	989	13.0	31.0
3	王洪涛	四川大学材料科学系	34	477	10.0	21.0
4	周心明	四川大学材料科学系	4	12	2.0	3.0
5	蔡亚平	四川大学材料科学系	33	302	10.0	16.0
6	冯技文	南京大学固体微结构实验室	1	2	1.0	1.0
7	徐宁	南京大学固体微结构实验室	23	156	4.0	12.0
8	麦振洪	中国科学院物理研究所	18	214	7.0	14.0