电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质

• 作者: 刘玉龙 岳晓云 蔡绍勤 邵荣珍 鲁亦强
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 电感耦合等离子体质谱,高纯 镓,痕量杂质,基体效应,内标,溶剂萃取
• 年，卷（期）: 2001,（11）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 1307-1310
• 页数: 4页
• 分类号: O65
• 字数: 2926字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2001.11.017

摘要

采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)测定高纯镓中痕量杂质元素,以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应,采用异丙醚萃取分离镓与ICP -MS技术联用,拓展分析方法应用范围,可满足99.9999%～99.99999%超高纯镓分析方法要求.方法检出限为0.006～0.062 μg/L;加标回收率为86.8%～121.4%之间;RSD为1.1%～ 8.6%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉龙		2	27	2.0	2.0
2	蔡绍勤		4	39	3.0	4.0
3	岳晓云		1	12	1.0	1.0
4	邵荣珍		1	12	1.0	1.0
5	鲁亦强		1	12	1.0	1.0