气相沉积铁钇多层膜的磁学性能

• 作者: 张自淑 潘峰 郝安林
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 气相沉积 铁钇多层膜 磁学性能
• 年，卷（期）: 2001,（12）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44|TG113.22
• 字数: 2403字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2001.12.008

摘要

研究了气相沉积技术制备的Fe/Y多层膜的磁学性能.试验结果表明:当多层膜中铁层厚度减小到1.4nm时,薄膜由铁磁性转变为超顺磁性;多层膜的饱和磁化强度随铁层厚度的减小和钇层厚度的增加而显著降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘峰	清华大学材料科学与工程系	30	196	6.0	13.0
2	郝安林	安阳大学机械系	4	31	1.0	4.0
3	张自淑	清华大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0