21世纪微电子光刻技术

• 作者: 刘业异 姚汉民
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子激光投影光刻 X射线光刻 极紫外光刻 电子束投影光刻 离子束投影光刻
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: EDA技术专栏
• 页码范围: 47-51,73
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 6205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2001.10.014

摘要

介绍了248nm,193nm,1 57nm准分子激光投影光刻的发展过程和下一代光刻技术(NGL)的实用化前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚汉民	中科院光电技术研究所	1	0	0.0	0.0
2	刘业异	中科院光电技术研究所	1	0	0.0	0.0