氮气氛下金刚石薄膜生长过程中的光发射谱研究

• 作者: 常超 廖源 方容川 李灿华 王冠中 马玉蓉
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 化学
• 关键词: 热丝CVD 光发射谱 含氮基团 金刚石生长
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 81-86
• 页数: 6页
• 分类号: O484|O657
• 字数: 3994字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2001.01.013

摘要

利用原位光发射谱对衬底附近的化学气相性质进行了研究. 研究表明，氮气的引入使得金刚石生长的气相化学和表面化学性质发生了很大变化. 含氮基团的萃取作用提高了金刚石表面氢原子的脱附速率，从而提高了金刚石膜的生长速率. 而含氮基团的选择吸附使金刚石(100)取向变得化学糙化，这种化学糙化使得(100)晶面生长速率远大于其它晶面，最终使金刚石薄膜呈现(100)织构. 还利用化学气相沉积方法研究了氮气浓度对金刚石生长的影响，结果与光发射谱分析是一致的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马玉蓉	中国科技大学物理系	3	6	1.0	2.0
2	方容川	中国科技大学物理系	2	6	1.0	2.0
3	廖源	中国科技大学物理系	2	7	2.0	2.0
4	李灿华	中国科技大学物理系	1	5	1.0	1.0
5	常超	中国科技大学物理系	1	5	1.0	1.0
6	王冠中	中国科技大学物理系	1	5	1.0	1.0