柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响*

• 作者: 朱圣龙 杨松岚 王福会
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: NiAl微晶涂层 柱状晶界面 氧化
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 页码范围: 625-627
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.2
• 字数: 2353字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2001.06.012

摘要

利用TGA,SEM对NiAl微晶的涂层在空气中1000 ℃恒温及循环氧化过程中柱状晶界面所起的作用进行了研究结果发现,柱状晶界面微孔在氧化初期作为自由表面严重影响了初始氧化动力学,同时柱状晶界面氧化物微钉的形成大大提高了氧化膜的粘附性建立了基于柱状晶界面的附加自由表面数学模型

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱圣龙	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	61	373	11.0	15.0
2	王福会	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	185	3078	28.0	48.0
3	杨松岚	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	5	101	5.0	5.0