ICP-AES 法测定硅铁中痕量元素

• 作者: 艾军
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 电感耦合等离子原子发射光谱 硅铁 痕量元素
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 51-53
• 页数: 3页
• 分类号: O657.31
• 字数: 1482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2001.05.018

摘要

采用电感耦合等离子原子发射光谱法测定硅铁中的痕量元素,研究了 Fe 基体对被测元素的影响,并选择了最佳工作条件.被测元素的检测限为 0 .60～76.2 ng/mL,样品加标回收率为 92%～108%,RSD(n=8)<3%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	艾军	武汉化工学院分析测试中心	26	219	9.0	14.0