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ICP-AES 法测定硅铁中痕量元素
ICP-AES 法测定硅铁中痕量元素
作者:
艾军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电感耦合等离子原子发射光谱
硅铁
痕量元素
摘要:
采用电感耦合等离子原子发射光谱法测定硅铁中的痕量元素,研究了 Fe 基体对被测元素的影响,并选择了最佳工作条件.被测元素的检测限为 0 .60~76.2 ng/mL,样品加标回收率为 92%~108%,RSD(n=8)<3%.
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篇名
ICP-AES 法测定硅铁中痕量元素
来源期刊
分析试验室
学科
化学
关键词
电感耦合等离子原子发射光谱
硅铁
痕量元素
年,卷(期)
2001,(5)
所属期刊栏目
研究简报
研究方向
页码范围
51-53
页数
3页
分类号
O657.31
字数
1482字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-0720.2001.05.018
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
艾军
武汉化工学院分析测试中心
26
219
9.0
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研究主题发展历程
节点文献
电感耦合等离子原子发射光谱
硅铁
痕量元素
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
分析试验室
主办单位:
北京有色金属研究总院
中国分析测试协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-0720
CN:
11-2017/TF
开本:
大16开
出版地:
北京新街口外大街2号
邮发代号:
82-431
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
7108
总下载数(次)
13
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