硅基SiO2光波导

• 作者: 徐永青 杨拥军 梁春广 赵彤
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化硅 光波导 氢氧焰淀积 微电子机械系统
• 年，卷（期）: 2001,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1546-1550
• 页数: 5页
• 分类号: TN814+.7
• 字数: 3234字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.12.014

摘要

在硅基上通过氢氧焰淀积的SiO2,厚度达到了20μm;通过掺Ge增加芯层的折射率,折射率比小于1%,并可调;用反应离子刻蚀工艺对波导的芯层进行刻蚀,刻蚀深度为6μm,刻蚀深宽比大于10;波导传输损耗小于0.6dB/cm(λ=1.55μm),并对波导的损耗机理和测试进行了分析与研究.另外,为实现光纤与波导的耦合,结合微电子机械系统技术,在波导基片上制作了光纤对准V形槽.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁春广		12	96	4.0	9.0
2	徐永青		5	78	3.0	5.0
3	杨拥军		4	85	3.0	4.0
4	赵彤		1	20	1.0	1.0