ECR-CVD沉积a-C:F薄膜

• 作者: 叶超 宁兆元 康健 程珊华 辛煜
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: a-C:F薄膜 ECR-CVD 键结构
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 490-491
• 页数: 2页
• 分类号: TB43
• 字数: 1280字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.05.015

摘要

采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,用苯和三氟甲烷混合气体,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).用红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)分析了a-C:F薄膜的结构.FTIR结果表明,氟主要以C-F、CF2的形式成键形成a-C:F薄膜;XPS结果进一步证明a-C:F膜中存在C-F、CF2键,获得了与FTIR相一致的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	辛煜	苏州大学物理系	38	176	8.0	10.0
3	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
4	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0
5	康健	苏州大学物理系	6	46	3.0	6.0