CVD金刚石膜制备方法及其应用

• 作者: 戚学贵 陈则韶 陈莉
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 化学汽相沉积 热丝 等离子体
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 页码范围: 55-59
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.1+8|TB43
• 字数: 5446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2001.06.017

摘要

介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展，并对各种方法的优缺点作了简要评述。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈莉	中国科学技术大学工程科学学院	36	200	9.0	12.0
2	陈则韶	中国科学技术大学工程科学学院	108	1106	18.0	26.0
3	戚学贵	中国科学技术大学工程科学学院	13	152	6.0	12.0