氧化钒薄膜的结构、性能及制备技术的相关性

• 作者: 李金华 林成鲁 袁宁一
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 相变 热电阻温度系数
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 572-575
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484.4
• 字数: 5687字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.06.004

摘要

氧化钒薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用已成为国际上新颖功能材料研究的热点之一.本文综述了V2O5和VO2薄膜电学性能与薄膜组分和结构的相关性,比较了不同工艺制备的氧化钒薄膜的电学性能差异.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林成鲁	中国科学院上海冶金研究所	44	595	15.0	23.0
2	李金华	江苏石油化工学院功能材料实验室	12	208	7.0	12.0
3	袁宁一	中国科学院上海冶金研究所	6	176	5.0	6.0