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摘要:
研究了掺磷双层多晶硅RCA器件和电路的制备工艺及其温度特性.在工艺中采用自对准双极结构,生长一层RCA超薄氧化层,并用快速热退火处理RCA氧化层.研制的多晶硅发射区RCA晶体管不仅具有较低的电流增益-温度依赖关系,而且还具有较快的工作速度.首次制备出多晶硅发射区RCA ECL静态二分频器在室温下其工作频率为1.1-1.2GHz,在液氮温度下能够正常工作,工作频率可达730MHz.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 77K下工作的双层多晶硅发射区RCA器件和电路
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 双极器件 RCA晶体管 多晶硅发射区 液氮温度 ECL集成电路
年,卷(期) 2001,(9) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1207-1211
页数 5页 分类号 TN32
字数 2344字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.09.024
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 莫邦燹 北京大学微电子学研究所 19 111 6.0 10.0
2 宁宝俊 北京大学微电子学研究所 15 100 5.0 9.0
3 张利春 北京大学微电子学研究所 18 48 4.0 5.0
4 张广勤 北京大学微电子学研究所 4 4 2.0 2.0
5 高玉芝 北京大学微电子学研究所 12 38 4.0 5.0
6 金海岩 北京大学微电子学研究所 12 32 4.0 5.0
7 叶红飞 北京大学微电子学研究所 8 29 3.0 5.0
8 罗葵 北京大学微电子学研究所 4 12 2.0 3.0
传播情况
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2003(2)
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研究主题发展历程
节点文献
双极器件
RCA晶体管
多晶硅发射区
液氮温度
ECL集成电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
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8
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35317
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