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77K下工作的双层多晶硅发射区RCA器件和电路
77K下工作的双层多晶硅发射区RCA器件和电路
作者:
叶红飞
宁宝俊
张利春
张广勤
罗葵
莫邦燹
金海岩
高玉芝
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
双极器件
RCA晶体管
多晶硅发射区
液氮温度
ECL集成电路
摘要:
研究了掺磷双层多晶硅RCA器件和电路的制备工艺及其温度特性.在工艺中采用自对准双极结构,生长一层RCA超薄氧化层,并用快速热退火处理RCA氧化层.研制的多晶硅发射区RCA晶体管不仅具有较低的电流增益-温度依赖关系,而且还具有较快的工作速度.首次制备出多晶硅发射区RCA ECL静态二分频器在室温下其工作频率为1.1-1.2GHz,在液氮温度下能够正常工作,工作频率可达730MHz.
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文献信息
篇名
77K下工作的双层多晶硅发射区RCA器件和电路
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
双极器件
RCA晶体管
多晶硅发射区
液氮温度
ECL集成电路
年,卷(期)
2001,(9)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1207-1211
页数
5页
分类号
TN32
字数
2344字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2001.09.024
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
莫邦燹
北京大学微电子学研究所
19
111
6.0
10.0
2
宁宝俊
北京大学微电子学研究所
15
100
5.0
9.0
3
张利春
北京大学微电子学研究所
18
48
4.0
5.0
4
张广勤
北京大学微电子学研究所
4
4
2.0
2.0
5
高玉芝
北京大学微电子学研究所
12
38
4.0
5.0
6
金海岩
北京大学微电子学研究所
12
32
4.0
5.0
7
叶红飞
北京大学微电子学研究所
8
29
3.0
5.0
8
罗葵
北京大学微电子学研究所
4
12
2.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
(2)
参考文献
(3)
节点文献
引证文献
(2)
同被引文献
(1)
二级引证文献
(0)
1986(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1994(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1995(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
1996(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2000(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2001(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2001(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2003(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
双极器件
RCA晶体管
多晶硅发射区
液氮温度
ECL集成电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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