作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
基于碳化硅材料电离系数和迁移率的温度依赖性,利用有效电离系数的Fulop近似,推出了6H-SiC单极性功率器件击穿电压和比导通电阻的温度依赖性解析表达式.理论预言的击穿电压和临界电场与先前的实验结果基本一致(误差小于10%),验证了理论模型的适用性.
推荐文章
直接烧结6H-SiC氧化机理的实验研究与分子动力学模拟
SiC
被动氧化
氧化机理
氧气扩散
分子动力学
6H-SiC/3C-SiC/6H-SiC量子阱结构制备及其发光特性
量子阱
碳化硅
固源分子束外延
反射高能电子衍射
光致发光
6H-SiC材料的氧化特性
6H-SiC
氧化特性
温度响应
二氧化硅
6H-SiC NMOS与PMOS温度特性分析
碳化硅
补偿电流源
冻析效应
普尔-弗兰克效应
体漏电流
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 6H-SiC单极功率器件性能的温度关系
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 宽禁带半导体器件 6H-SiC 电离系数 雪崩击穿 比导通电阻 温度关系
年,卷(期) 2001,(10) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 1235-1239
页数 5页 分类号 TN303
字数 1159字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.10.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张兴 北京大学微电子学研究所 120 618 12.0 20.0
2 何进 北京大学微电子学研究所 24 84 5.0 8.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (3)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (2)
1967(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1994(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1997(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2001(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2007(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2009(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2018(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
宽禁带半导体器件
6H-SiC
电离系数
雪崩击穿
比导通电阻
温度关系
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导