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摘要:
采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜,并对膜的紫外光反射性能进行研究,发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关.选用取向为(100)的单晶Si为基片,在基片温度为470℃左右、多层膜的周期为30时,膜的结晶性较好.且多层膜的反射率随波长的减小而增加,在波长为250nm时,反射率可达到65%
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文献信息
篇名 金属Ti/Cu多层膜紫外光反射性能研究
来源期刊 功能材料 学科 物理学
关键词 多层金属膜 直流磁控溅射 紫外反射率
年,卷(期) 2001,(1) 所属期刊栏目 研究与开发
研究方向 页码范围 93-94
页数 2页 分类号 O484.41
字数 1693字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.01.035
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨成韬 电子科技大学信息材料工程学院 67 255 8.0 12.0
2 李燕 电子科技大学信息材料工程学院 29 259 9.0 15.0
3 罗佳慧 电子科技大学信息材料工程学院 9 51 4.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
多层金属膜
直流磁控溅射
紫外反射率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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