溅射参数对Ge2Sb2Te5薄膜光学常数的影响

• 作者: 侯立松 干福熹 李晶 谢泉 阮昊
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学常数 Ge2Sb2Te5薄膜 溅射参数
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 187-192
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.2+6
• 字数: 4222字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.02.016

摘要

研究了溅射参数对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数随波长变化关系的影响，结果表明：(1)当溅射功率一定时，随溅射氩气气压的增加Ge2Sb2Te5薄膜的折射率先增大后减小，而消光系数先减小后增大.(2)当溅射氩气气压一定时，对于非晶态薄膜样品，在500nm波长以下，折射率随溅射功率的增加先增加后减小，消光系数则逐渐减小；在500nm以上，折射率随溅射功率的增加逐渐减少，消光系数先减小后增加.对于晶态薄膜样品，在整个波长范围折射率随溅射功率的增加先减小后增加，消光系数则逐渐减少.(3)薄膜样品的光学常数都随波长的变化而变化，在长波长范围变化较大，短波长范围变化较小.探讨了影响Ge2Sb2Te5薄膜光学常数的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	阮昊	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	336	7.0	17.0
3	李晶	中国科学院上海光学精密机械研究所	127	2691	28.0	50.0
4	侯立松	中国科学院上海光学精密机械研究所	43	407	13.0	18.0