电解有机溶液法在Si表面制备类金刚石薄膜及退火对其结构的影响

• 作者: 李龙土 桂治轮 蔡锴 郭栋
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石薄膜 退火
• 年，卷（期）: 2001,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：结构、热学和力学性质
• 页码范围: 2413-2417
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2989字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.12.024

摘要

在对不同有机溶剂分子结构分析的基础上,选取甲醇、DMF(N,N-二甲基甲酰胺)和乙腈溶液为碳源,以脉冲直流电源电解有机溶液的方法在Si片上制得了含氢类金刚石薄膜(DLC薄膜),并研究了退火对薄膜结构的影响.通过X射线光电子能谱(XPS),喇曼(Raman)和红外(IR)光谱对薄膜的结构进行了分析表征.XPS表明薄膜的主要成分为C,喇曼光谱显示所得薄膜为典型DLC薄膜.喇曼和红外光谱还表明,膜中含有大量H并且主要键合于sp3碳处.随着退火的进行薄膜中的H被去除.随温度升高薄膜电阻率的下降及喇曼峰形和峰位置的变化表明,C的价键结构逐渐从sp3转化为sp2结构,即薄膜经历了一石墨化过程.通过三种溶液中所得薄膜的物理性能和各谱图特征几乎相同的事实和对三种溶液分子结构的比较推测,甲基为此液相制备DLC薄膜法的功能团,更有效的C源可从高介电常量的含甲基极性溶剂中选取.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李龙土	清华大学材料科学与工程系	122	1435	22.0	31.0
2	桂治轮	清华大学材料科学与工程系	71	920	17.0	27.0
3	郭栋	清华大学材料科学与工程系	24	149	7.0	11.0
4	蔡锴	清华大学材料科学与工程系	4	64	4.0	4.0