紫外均匀曝光对长周期光纤光栅耦合特性的影响

• 作者: Ho S L Tam H Y 关柏鸥 董孝义
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 长周期光纤光栅 耦合特性 紫外均匀曝光
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 纤维光学
• 页码范围: 147-149
• 页数: 3页
• 分类号: TN25
• 字数: 1831字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2001.02.005

摘要

写于载氢光纤上的长周期光纤光栅经过高温退火后，对其进行紫外均匀曝光能够有效改变其耦合特性。随着曝光量的增加，其共振波长向长波方向移动，共振峰强度先增大继而减小。并对此给出了理论解释。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董孝义	南开大学现代光学研究所	296	5721	37.0	55.0
2	关柏鸥	香港理工大学电机工程系	9	251	7.0	9.0
3	Tam H Y	香港理工大学电机工程系	3	65	2.0	3.0
4	Ho S L	香港理工大学电机工程系	3	65	2.0	3.0